(1) 本文討論磁場(chǎng)中中等低氣壓弧光放電與輝光放電的正柱理論。

(2) 利用直流弧光放電法制備了巴基蔥，高分辨透射電子顯微鏡分析表明這種巴基蔥為空心橢球形，由11層富勒烯組成。

(3) 理論分析與實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)：弧光放電現(xiàn)象的出現(xiàn)是造成激光器放電及輸出不穩(wěn)定的最主要的因素，而引起弧光放電的因素則是多方面的。

(4) 分別以注入機(jī)和氣體常壓弧光放電產(chǎn)生的低能離子作用于固態(tài)和溶液中的氨基酸，研究了樣品紅外光譜的變化。

(5) 日光燈是一種低氣壓的汞蒸氣弧光放電燈.

(6) 結(jié)果表明，交流脈沖放電在抑制弧光放電和空心陰極效應(yīng)方面是非常有效的，對(duì)于高鉻鋼材料表面的離子滲氮作用是明顯的。

(7) 裝運(yùn)前所有電源都經(jīng)過嚴(yán)格的動(dòng)態(tài)測(cè)試以及反復(fù)的弧光放電檢測(cè)。

(8) 從理論上推導(dǎo)出低壓氣體弧光放電穩(wěn)定的外電路幾種條件。

(9) 可減少所述弧光放電現(xiàn)象的產(chǎn)生。

(10) RCAE1047可以在高真空和低電流條件下穩(wěn)定弧光放電工作，特別是采用純鋯靶材時(shí)。

(11) 結(jié)果表明，在抑制陽極發(fā)生弧光放電的狀態(tài)下，鎂合金表面可以沉積一層致密的氧化厚膜層，該膜層具有較高的硬度和優(yōu)良的耐蝕性能。

(12) 多弧離子鍍技術(shù)是離子鍍技術(shù)的一種改進(jìn)方法，它是把弧光放電作為金屬蒸發(fā)源的表面涂層技術(shù)。

(13) 汞弧光放電是一種低氣壓氣體放電現(xiàn)象，放電電流密度大。